Guadalupe Alan Castillo Rodríguez1,*
1 Facultad de Ingeniería Mecánica y Eléctrica, Universidad Autónoma de Nuevo León, Av. Pedro de Alba s/n, 66455, San Nicolás de los Garzas, México.
* Correspondencia: alan.castillo@uanl.mx
https://doi.org/10.59335/evur6605
Summary
The present study focuses on the precise determination of the binding energy of high-purity silver using the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) technique, a critical element in high-tech appli-cations such as electronics, aerospace, and defense. The silver used, with a certified purity of 99.99%, was analyzed without previous alterations to ensure that the results reflected its authentic state as received from the supplier. XPS spectra showed binding energy peaks characteristic of pure metal at 368.18 eV and 374.18 eV for levels 3d5/2 and 3d3/2, respectively, with a difference of 6 eV corroborating the expected electron structure for metallic silver. The observed half-height width (FWHM) of 0.9 eV underscores the exceptional homogeneity and purity of the sample. This binding energy data not only confirms the high quality of silver, but also provides an essential benchmark for the scientific community, allowing detailed comparisons with other samples and contributing to the development of innovative processes and materials. This study highlights XPS as an indispensable tool in the characterization of noble metals and sets a standard for future research.
Resumen
El presente estudio se concentra en la determinación precisa de la energía de enlace de la plata de alta pureza mediante la técnica de espectroscopía de fotoelectrones de rayos X (XPS), un elemento crítico en aplicaciones de alta tecnología como la electrónica, la aeroespacial y la defensa. La plata utilizada, con una pureza certificada del 99.99%, fue analizada sin alteraciones previas para ase-gurar que los resultados reflejaran su estado auténtico como se recibe del proveedor. Los espectros de XPS mostraron picos de energía de enlace característicos del metal puro a 368.18 eV y 374.18 eV para los niveles 3d5/2 y 3d3/2, respectivamente, con una diferencia de 6 eV que corrobora la estructura electrónica esperada para la plata metálica. La anchura a media altura (FWHM) observada de 0.9 eV subraya la homogeneidad y pureza excepcionales de la muestra. Estos datos de energía de enlace no solo confirman la alta calidad de la plata, sino que también proporcionan un punto de referencia esencial para la comunidad científica, permitiendo comparaciones detalladas con otras muestras y contribuyendo al desarrollo de procesos y materiales innovadores. Este estudio destaca la XPS como una herramienta indispensable en la caracterización de metales nobles y establece un estándar para futuras investigaciones.
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Estudio de XPS en la determinación de la energía de enlace de Ag de alta pureza